|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 32 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Structure and electrical properties of HfO2 high-k films prepared by pulsed laser deposition on Si (100) |
| Auteur: |
Wang, Hao Wang, Y. Feng, J. Ye, C. Wang, B. Y. Wang, H. B. Li, Q. Jiang, Y. Huang, A. P. Xiao, Z. S. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 93 (2008) nr. 3 pagina's 681-684 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 32 van 40 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |