|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Raman study of a-Si:H films deposited by PECVD at various silane temperatures before glow-discharge |
| Auteur: |
Liao, N.M. Li, W. Jiang, Y.D. Kuang, Y.J. Qi, K.C. Wu, Z.M. Li, S.B. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 91 (2008) nr. 2 pagina's 349-352 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |