|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 29 gevonden artikelen
| Titel: |
Low temperature thermal annealing-induced α-FeSi2 derived phase in an amorphous Si matrix |
| Auteur: |
Naito, M. Ishimaru, M. Hirotsu, Y. Valdez, J.A. Sickafus, K.E. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 91 (2008) nr. 2 pagina's 353-356 |
| Jaar: |
2008 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 29 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |