Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 14 van 71 gevonden artikelen
 
 
  Effect of processing parameters on the deposition rate of Si3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF6
 
 
Titel: Effect of processing parameters on the deposition rate of Si3N4/Si2N2O by chemical vapor infiltration and the in situ thermal decomposition of Na2SiF6
Auteur: Pech-Canul, M.I.
de la Peña, J.L.
Leal-Cruz, A.L.
Verschenen in: Applied physics. Part A, Materials science and processing
Paginering: Jaargang 89 () nr. 3 pagina's 729-735
Jaar: 2007-06-28
Inhoud:
Uitgever: Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 14 van 71 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland