|
The influence of a poly-Si intermediate layer on the crystallization behaviour of Ni-Ti SMA magnetron sputtered thin films |
|
|
|
Titel: |
The influence of a poly-Si intermediate layer on the crystallization behaviour of Ni-Ti SMA magnetron sputtered thin films |
Auteur: |
Martins, R.M.S. Braz Fernandes, F.M. Silva, R.J.C. Pereira, L. Gordo, P.R. Maneira, M.J.P. Beckers, M. Mücklich, A. Schell, N. |
Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
Paginering: |
Jaargang 83 (2005) nr. 1 pagina's 139-145 |
Jaar: |
2005 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|