|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 36 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
The early oxynitridation stages of hydrogen-terminated (100) silicon after exposure to N2 : N2O. IV: Oxide structure and growth kinetics in the monolayer regime |
| Auteur: |
Cerofolini, G.F. Galati, C. Reina, S. Renna, L. Ward, P. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 81 (2004) nr. 1 pagina's 187-191 |
| Jaar: |
2004 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 36 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |