|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 22 van 38 gevonden artikelen
| Titel: |
Interpretation of TOF–SIMS depth profiles from ultrashallow high-k dielectric stacks assisted by hybrid collisional computer simulation |
| Auteur: |
Ignatova, V.A. Möller, W. Conard, T. Vandervorst, W. Gijbels, R. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 81 (2005) nr. 1 pagina's 71-77 |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 22 van 38 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |