|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxygen plasma and high pressure H2O vapor heat treatments used to fabricate polycrystalline silicon thin film transistors |
| Auteur: |
Watakabe, H. Sameshima, T. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 77 (2003) nr. 1 pagina's 141-144 |
| Jaar: |
2003 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 20 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |