|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 30 van 73 gevonden artikelen
| Titel: |
Impact of low-temperature AlN interlayer on quality and residual stress of AlN films deposited by MOCVD on Si (111) substrate |
| Auteur: |
Wang, Yaxin Lin, Binghui Ren, Yuqi Yang, Tingting Yang, Chaoxiang Cai, Yao Sun, Chengliang |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 131 () nr. 7 pagina's xx |
| Jaar: |
2025-06-19 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 30 van 73 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |