|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 68 van 100 gevonden artikelen
| Titel: |
Sensitize BiVO4 with rhodamine B using BiOCl as a bridge to yield more photoelectrons for photoelectrochemical application |
| Auteur: |
Shang, Jun Cheng, Yajing Wang, Fuqiang Wang, Xianwei |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 130 () nr. 5 pagina's xx |
| Jaar: |
2024-04-15 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 68 van 100 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |