|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 49 van 79 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanism study of SiO2 layer formation and separation at the Si die sidewall during nanosecond laser dicing of ultrathin Si wafers with Cu backside layer |
| Auteur: |
Marks, Michael Raj Yong, Foo Khong Cheong, Kuan Yew Hassan, Zainuriah |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 126 () nr. 2 pagina's xx |
| Jaar: |
2020-01-30 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 49 van 79 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |