|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 83 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomic layer deposition of $$\text {HfO}_2$$HfO2 for integration into three-dimensional metal–insulator–metal devices |
| Auteur: |
Assaud, Loïc Pitzschel, Kristina Barr, Maïssa K. S. Petit, Matthieu Monier, Guillaume Hanbücken, Margrit Santinacci, Lionel |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 123 () nr. 12 pagina's 1-7 |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 83 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |