Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 8 van 49 gevonden artikelen
 
 
  Dependence of O2 and Ar2 flow rates on the physical properties of ATO thin films deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD)
 
 
Titel: Dependence of O2 and Ar2 flow rates on the physical properties of ATO thin films deposited by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD)
Auteur: Fadavieslam, M. R.
Sadra, S.
Verschenen in: Applied physics. Part A, Materials science and processing
Paginering: Jaargang 123 (2017) nr. 11 pagina's 1-10
Jaar: 2017
Inhoud:
Uitgever: Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 8 van 49 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland