|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Cu/TiO2 thin films prepared by reactive RF magnetron sputtering |
| Auteur: |
Sreedhar, M. Reddy, I. Neelakanta Bera, Parthasarathi Ramachandran, D. Gobi Saravanan, K. Rabel, Arul Maximus Anandan, C. Kuppusami, P. Brijitta, J. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 120 (2015) nr. 2 pagina's 765-773 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |