|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of amorphous RuMoC alloy films as a seedless diffusion barrier for Cu/p-SiOC:H ultralow-k dielectric integration |
| Auteur: |
Jiao, Guohua Liu, Bo Li, Qiran |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 120 (2015) nr. 2 pagina's 579-585 |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |