|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 31 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Planar self-aligned imprint lithography for coplanar plasmonic nanostructures fabrication |
| Auteur: |
Wan, Weiwei Lin, Liang Xu, Yelong Guo, Xu Liu, Xiaoping Ge, Haixiong Lu, Minghui Cui, Bo Chen, Yanfeng |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 116 (2014) nr. 2 pagina's 657-662 |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 31 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |