|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 37 gevonden artikelen
| Titel: |
Double layer a-Si:H/SiN:H deposited at low temperature for the passivation of N-type silicon |
| Auteur: |
Schutz-Kuchly, T. Slaoui, A. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 112 (2013) nr. 4 pagina's 863-867 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer Berlin Heidelberg, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 37 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |