|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 25 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Reactive sputtering of (Co,Fe) nitride thin films on TiN-bufferd Si |
| Auteur: |
Xiang, H. Shi, F.-Y. Rzchowski, M. S. Voyles, P. M. Chang, Y. A. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 110 (2012) nr. 2 pagina's 487-492 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 25 van 34 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |