|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 29 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Removal of nanoparticles on silicon wafer using a self-channeled plasma filament |
| Auteur: |
Park, Jung-Kyu Yoon, Ji-Wook Whang, Kyung-Hyun Cho, Sung-Hak |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 108 (2012) nr. 2 pagina's 269-274 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 29 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |