|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 24 van 36 gevonden artikelen
| Titel: |
Optical–thermal simulation applied to the study of the pattern effects induced by the sub-melt laser anneal process in advanced CMOS technologies |
| Auteur: |
Colin, A. Morin, P. Cacho, F. Bono, H. Beneyton, R. Mathiot, D. Fogarassy, E. |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 104 (2011) nr. 2 pagina's 517-527 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 24 van 36 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |