|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 27 van 45 gevonden artikelen
| Titel: |
Photoassisted chemical solution deposition method for fabricating uniformly epitaxial VO2 films |
| Auteur: |
Nishikawa, Masami Nakajima, Tomohiko Kumagai, Toshiya Okutani, Takeshi Tsuchiya, Tetsuo |
| Verschenen in: |
Applied physics. Part A, Materials science and processing |
| Paginering: | Jaargang 100 (2010) nr. 1 pagina's 297-303 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 27 van 45 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |