|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 18 van 19 gevonden artikelen
| Titel: |
The effect of discharge conditions of ICP etching reactor on plasma parameters |
| Auteur: |
Lu, Yijia Chen, Yaosong An, Yiran |
| Verschenen in: |
Acta mechanica Sinica |
| Paginering: | Jaargang 25 (2009) nr. 6 pagina's 769-776 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 18 van 19 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |