|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma Parameters and Kinetics of Reactive Ion Etching of SiO2 and Si3N4 in an HBr/Cl2/Ar Mixture |
| Auteur: |
Efremov, A. M. Betelin, V. B. Kwon, K.-H. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 52 () nr. 2 pagina's 99-106 |
| Jaar: |
2023-06-20 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |