|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of Discharge Power in a Plasma during Reactive-Ion Etching of Massive Substrates on the Matching of the Lower Electrode with a High-Frequency Bias Generator |
| Auteur: |
Poletayev, S. D. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 51 () nr. 3 pagina's 144-148 |
| Jaar: |
2022-06-07 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |