|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Technology of Nanosized Metal Layers for Forming a Reliable Contact to the Drain Area of Silicon Transistors |
| Auteur: |
Ismailov, T. A. Shakhmaeva, A. R. Shangereeva, B. A. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 49 () nr. 6 pagina's 385-388 |
| Jaar: |
2021-01-27 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |