|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Kinetics and Mechanisms of Reactive-Ion Etching of Si and SiO2 in a Plasma of a Mixture of HBr + O2 |
| Auteur: |
Efremov, A. M. Betelin, V. B. Kwon, K.-H. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 49 () nr. 6 pagina's 379-384 |
| Jaar: |
2021-01-27 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |