|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| Titel: |
Estimating the Interrelation between the Rate of Atomic Layer Deposition of Thin Platinum-Group Metal Films and the Molecular Mass of Reactant Precursors |
| Auteur: |
Vasilyev, V. Yu. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 48 (2019) nr. 4 pagina's 208-219 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 10 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |