Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 9 van 10 gevonden artikelen
 
 
  Simulating the chlorine plasma etching profile of high-aspect-ratio trenches in Si
 
 
Titel: Simulating the chlorine plasma etching profile of high-aspect-ratio trenches in Si
Auteur: Shumilov, A. S.
Amirov, I. I.
Luckichev, V. F.
Verschenen in: Russian microelectronics
Paginering: Jaargang 46 (2017) nr. 5 pagina's 301-308
Jaar: 2017
Inhoud:
Uitgever: Pleiades Publishing, Moscow
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 9 van 10 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland