|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Modeling of the high aspect groove etching in Si in a Cl2/Ar mixture plasma |
| Auteur: |
Shumilov, A. S. Amirov, I. I. Lukichev, V. F. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 45 (2016) nr. 3 pagina's 167-179 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |