|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of the impact of plasma etching steps on the roughness of the fin FET channel sidewalls in the scheme of hetero-integration |
| Auteur: |
Baranov, G. V. Milenin, A. P. Baklanov, M. P. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 45 (2016) nr. 3 pagina's 186-190 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |