|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of polymer matrix and photoacid generator on the lithographic properties of chemically amplified photoresist |
| Auteur: |
Bulgakova, S. A. Gurova, D. A. Zaitsev, S. D. Kulikov, E. E. Skorokhodov, E. V. Toropov, M. N. Pestov, A. E. Chkhalo, N. I. Salashchenko, N. N. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 43 (2014) nr. 6 pagina's 392-400 |
| Jaar: |
2014 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |