|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 7 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma parameters and mechanisms of GaAs reactive plasma etching in mixtures of HCl with argon and chlorine |
| Auteur: |
Dunaev, A. V. Pivovarenok, S. A. Efremov, A. M. Svettsov, V. I. Kapinos, S. P. Yudina, A. V. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 42 (2013) nr. 4 pagina's 212-219 |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, Boston |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 7 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |