Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 4 van 7 gevonden artikelen
 
 
  Plasma parameters and mechanisms of GaAs reactive plasma etching in mixtures of HCl with argon and chlorine
 
 
Titel: Plasma parameters and mechanisms of GaAs reactive plasma etching in mixtures of HCl with argon and chlorine
Auteur: Dunaev, A. V.
Pivovarenok, S. A.
Efremov, A. M.
Svettsov, V. I.
Kapinos, S. P.
Yudina, A. V.
Verschenen in: Russian microelectronics
Paginering: Jaargang 42 (2013) nr. 4 pagina's 212-219
Jaar: 2013
Inhoud:
Uitgever: Springer US, Boston
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 4 van 7 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland