|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 10 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
Research and development of deep anisotropic plasma silicon etching process to form MEMS structures |
| Auteur: |
Golishnikov, A. A. Kostyukov, D. A. Putrya, M. G. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 41 (2012) nr. 7 pagina's 365-369 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 10 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |