|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of radiation defects on diffusion of arsenic and antimony in implanted silicon |
| Auteur: |
Jadan, M. Chelyadinskii, A. R. Yavid, V. Yu. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 41 (2012) nr. 2 pagina's 85-90 |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |