|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-temperature pulsed vapor-phase deposition of thin ruthenium metal layers for microelectronics and nanoelectronics. Part 4: The structure and basic properties of ruthenium layers |
| Auteur: |
Vasilyev, V. Yu. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 40 (2011) nr. 4 pagina's 279-288 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |