|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimization of the tomographic algorithm of the reconstruction of plasma irregularities in process reactors of microelectronics |
| Auteur: |
Fadeev, A. V. Rudenko, K. V. Lukichev, V. F. Orlikovskii, A. A. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 40 (2011) nr. 2 pagina's 108-118 |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |