|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Low temperature pulsed gas-phase deposition of thin layers of metallic ruthenium for micro- and nanoelectronics: Part 2. Kinetics of the growth of ruthenium layers |
| Auteur: |
Vasilyev, V. Yu. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 39 (2010) nr. 3 pagina's 199-209 |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |