|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| Titel: |
Nano- and micrometer-scale thin-film-interconnection failure theory and simulation and metallization lifetime prediction, Part 1: A general theory of vacancy transport, mechanical-stress generation, and void nucleation under electromigration in relation to multilevel-metallization degeneration and failure |
| Auteur: |
Valiev, K. A. Goldstein, R. V. Zhitnikov, Yu. V. Makhviladze, T. M. Sarychev, M. E. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 38 (2009) nr. 6 pagina's 364-384 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 8 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |