|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma parameters and etching mechanisms of metals and semiconductors in hydrogen chloride |
| Auteur: |
Efremov, A. M. Pivovarenok, S. A. Svettsov, V. I. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 38 (2009) nr. 3 pagina's 147-159 |
| Jaar: |
2009 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
SP MAIK Nauka/Interperiodica, Dordrecht |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |