|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 9 gevonden artikelen
| Titel: |
Kinetics and mechanisms of Cl2 or HCl plasma etching of copper |
| Auteur: |
Efremov, A. M. Pivovarenok, S. A. Svettsov, V. I. |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 36 (2007) nr. 6 pagina's 358-365 |
| Jaar: |
2007 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Nauka/Interperiodica, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 9 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |