|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 20 gevonden artikelen
| Titel: |
ULSI Gap Filling with a Thin CVD SiO2-Based Insulator: A Review |
| Auteur: |
V. Y. Vassiliev |
| Verschenen in: |
Russian microelectronics |
| Paginering: | Jaargang 31 (2002) nr. 4 pagina's 8 p. |
| Jaar: |
2002-07/08-/08 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Kluwer Academic/Plenum Publishers, New York, U.S.A. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 20 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |