|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 18 gevonden artikelen
| Titel: |
Low-Temperature Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Deposition of Silicon Dioxide Films from Tetraethoxysilane |
| Auteur: |
Bil’, A. S. Aleksandrov, S. E. |
| Verschenen in: |
Russian journal of applied chemistry |
| Paginering: | Jaargang 95 () nr. 4 pagina's 544-550 |
| Jaar: |
2022-09-16 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 18 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |