|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| Titel: |
Development of Process for Fast Plasma-Chemical Through Etching of Single-Crystal Quartz in SF6/O2 Gas Mixture |
| Auteur: |
Osipov, A. A. Aleksandrov, S. E. Osipov, A. A. Berezenko, V. I. |
| Verschenen in: |
Russian journal of applied chemistry |
| Paginering: | Jaargang 91 (2018) nr. 8 pagina's 1255-1261 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 17 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |