|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 26 gevonden artikelen
| Titel: |
Plasma chemical etching of photoresist layers based on diazonaphthoquinones in an installation with remote oxygen plasma |
| Auteur: |
Speshilova, A. B. Solov’ev, Yu. V. Alexandrov, S. E. |
| Verschenen in: |
Russian journal of applied chemistry |
| Paginering: | Jaargang 89 (2016) nr. 8 pagina's 1317-1321 |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Pleiades Publishing, Moscow |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 26 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |