|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Development and Performance Evolution of Medium-Pressure He/SF6/O2-Based Plasma and Wet Chemical Etching Process for Surface Modification of Fused Silica |
| Auteur: |
Yadav, Hari Narayan Singh Das, Manas |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 44 () nr. 2 pagina's 1083-1104 |
| Jaar: |
2024-02-05 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |