|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 11 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Medium Pressure Plasma Processing of Fused Silica: A Comparative Study for Material Removal Rate |
| Auteur: |
Krishna, Enni Sreelakshmy, K. Dev, D. Sam Dayala Das, Manas |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 44 () nr. 2 pagina's 1069-1082 |
| Jaar: |
2024-01-03 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 11 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |