|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
A RF plasma source with focused magnetic field for material treatment |
| Auteur: |
Zhang, L. P. Chang, L. Yuan, X. G. Zhang, J. H. Zhou, H. S. Luo, G. N. |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 43 () nr. 1 pagina's 329-345 |
| Jaar: |
2022-11-17 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |