|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| Titel: |
Etching Kinetics and Surface Conditions for KNbxOy Thin Films with Fluorine- and Chlorine-Based Plasma Chemistries |
| Auteur: |
Lim, Nomin Efremov, Alexander Hwang, Hyun-Gyu Nahm, Sahn Kwon, Kwang-Ho |
| Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
| Paginering: | Jaargang 40 () nr. 2 pagina's 625-640 |
| Jaar: |
2020-01-24 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer US, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 12 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |