|
Loop Type of Inductively Coupled Thermal Plasmas System for Rapid Two-Dimensional Oxidation of Si Substrate Surface |
|
|
|
Titel: |
Loop Type of Inductively Coupled Thermal Plasmas System for Rapid Two-Dimensional Oxidation of Si Substrate Surface |
Auteur: |
Tsuchiya, Takumi Tanaka, Yasunori Maruyama, Y. Fujita, A. Tial, M. K. S. Uesugi, Y. Ishijima, T. Yukimoto, T. Kawaura, H. |
Verschenen in: |
Plasma chemistry and plasma processing |
Paginering: |
Jaargang 38 (2018) nr. 3 pagina's 599-620 |
Jaar: |
2018 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|